答 : 等离子清洗的技术特点是：它不分处理对象，可处理不同的基材，无论是金属、半导体、氧化物还是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、环氧树脂等高聚物)都可用等离子体很好地处理，因此，特别适合不耐热和不耐溶剂的基底材料。而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗。
 
等离子清洗的机理是依靠处于“等离子态”的物质的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。从目前各类清洗方法来看，可能等离子体清洗也是所有清洗方法中彻底的剥离式的清洗了。